2011年9月16日に署名された米国改正特許法(America Invents Act)の主要なポイントと、改正事項について日本企業が留意しておいた方がよいことなどを解説いたします。
このセミナーで学べること
<解説予定の項目>
・複数の被告に対する訴訟の併合についての制限
・ベストモード違反の抗弁の排除
・虚偽特許表示に対する訴訟の制限
・特許表示要件の緩和 (Virtual Marking)
・micro entityに対する料金割引制度
・Prioritized Examination
・出願人・宣誓書に関する要件の緩和
・権利化前の刊行物提出制度 (Preissuance Submissions)
・Post-Grant Review
・Inter Partes Review
・Supplemental Examination
・弁護士の助言(鑑定書)の取り扱いに関する改正
・「first inventor to publish or file」制度への移行
・先行技術・グレースピリオドに関する改正
セミナー詳細
主催者情報 | アペリオ国際特許事務所 |
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講師名 | 弁理士・米国弁護士 森 友宏 |
参加費用 | 3,000 円 (税込) |
定員 | 40 名 |
カテゴリー | 法対応/スキルアップ |
参加対象 | 米国特許実務に携わっている方、興味のある方 |
参加条件 | 特になし |
申込期限 | 2011年11月25日 |
日時 | |
開場時間 | 13:15 |
会場 | CROSS COOP 9階大会議室 |
会場住所 | 東京都港区北青山2-7-26 フジビル28 |
備考 | |
キャンセルポリシー |
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